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艾博納微納米科技(江蘇)有限責任公司

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石英真空等離子清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號:

品       牌:ABNER/艾博納

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:淮安市

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更新時間:2025-04-16 17:31:37瀏覽次數(shù):450次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合
射頻 13.56MHz
該款石英真空等離子清洗機采用石英腔體設(shè)計,密封性優(yōu)良;13.56射頻等離子發(fā)生器,產(chǎn)生高密度等高子體,確保出眾的清洗效果,滿足用戶對小產(chǎn)品表面處理及實驗測試的需求,同時可以節(jié)約用戶成本,用合適的預(yù)算完成自己的目標。

  該款石英真空等離子清洗機具備先進的石英腔體設(shè)計,具有優(yōu)良的密封性能,有效防止氣體泄漏,提升設(shè)備安全性。其13.56MHz射頻等離子發(fā)生器能夠產(chǎn)生高密度的等離子體,這種高密度等離子體可以深入產(chǎn)品表面的微小結(jié)構(gòu),從而確保出眾的清洗和處理效果。此外,這種高效的等離子體處理還有助于提升小型產(chǎn)品在實驗測試中的表現(xiàn),滿足科研和工業(yè)領(lǐng)域?qū)Ω呔群透呒兌缺砻嫣幚淼膰揽烈蟆?/p>

一、原理:等離子體如何實現(xiàn)高效清洗?

石英真空等離子清洗機利用等離子體的物理轟擊與化學(xué)反應(yīng),在真空環(huán)境中對材料表面進行清潔、活化和改性,適用于半導(dǎo)體、光學(xué)器件、醫(yī)療植入物等高精度領(lǐng)域。

1. 等離子體生成機制

真空環(huán)境:將反應(yīng)腔抽至低真空(10??~10?? Torr),減少氣體分子碰撞干擾。

高頻電場激發(fā):通過射頻電源(通常13.56 MHz)使惰性氣體(如Ar)或反應(yīng)氣體(如O?、CF?)電離,產(chǎn)生包含離子、電子、自由基的等離子體。

石英腔體優(yōu)勢:石英耐高溫、抗腐蝕,確保等離子體穩(wěn)定且不引入金屬污染。

2. 清洗作用原理

物理濺射:高能離子轟擊表面,直接剝離有機物、顆粒污染物。

化學(xué)反應(yīng):活性自由基(如O?、F?)與污染物反應(yīng),生成揮發(fā)性產(chǎn)物(如CO?、H?O)排出。

表面活化:等離子體處理可增加材料表面能,改善后續(xù)涂層或粘接性能。

二、操作流程:從開機到清洗的標準化步驟

1. 設(shè)備準備

檢查系統(tǒng)密封性:確認腔體、管道無泄漏,真空泵(如旋片泵+分子泵)正常運行。

氣體準備:連接氣瓶(如Ar、O?),調(diào)節(jié)流量計至設(shè)定值(通常20-50 sccm)。

樣品固定:將待清洗樣品置于石英托盤,避免遮擋等離子體覆蓋區(qū)域。

2. 參數(shù)設(shè)置

真空度:抽至基礎(chǔ)真空(<5×10?? Torr)。

射頻功率:根據(jù)材料類型設(shè)置(50-300 W),功率過高可能損傷樣品。

處理時間:常規(guī)清洗5-30分鐘,超精細清洗可延長至1小時。

3. 啟動等離子體

通入工作氣體:先通入Ar氣預(yù)清洗,再切換至反應(yīng)氣體(如O?去除有機物)。

點燃等離子體:開啟射頻電源,通過阻抗匹配器調(diào)節(jié)至穩(wěn)定輝光放電(肉眼可見均勻紫色/藍色輝光)。

過程監(jiān)控:觀察真空度、功率反射率(需<5%),異常時立即停機。

4. 結(jié)束與取樣

關(guān)閉氣體與電源:先停射頻,再關(guān)閉氣體,最后關(guān)閉真空泵。

破空取件:向腔體通入N?至常壓,佩戴無塵手套取出樣品。

三、維護要點:延長設(shè)備壽命的關(guān)鍵

1. 日常維護

腔體清潔:

每周用IPA擦拭石英腔體內(nèi)壁,去除聚合物沉積。

頑固污染可用氧等離子體灰化(功率200 W,O?流量30 sccm,處理1小時)。

真空泵保養(yǎng):

每月檢查旋片泵油位,油質(zhì)渾濁時更換(建議每500小時換油)。

分子泵需定期檢查軸承狀態(tài),避免高速運轉(zhuǎn)下卡死。

2. 關(guān)鍵部件維護

石英窗/托盤:

避免機械撞擊,清洗時使用軟布+去離子水,禁用硬質(zhì)刷具。

每半年檢查透光性,若出現(xiàn)霧化或裂紋需更換。

射頻電極:

定期用砂紙打磨電極表面氧化層,確保導(dǎo)電性。

檢查電極與腔體的絕緣墊片,老化開裂時及時更換。

3. 校準與故障排查

真空計校準:每季度對比標準真空計,誤差>10%需調(diào)整。

氣體流量計校準:使用皂膜流量計標定,確保精度±2%。

常見故障處理:

等離子體不穩(wěn)定:檢查氣體純度(需≥99.999%)、匹配器阻抗。

真空度不足:排查密封圈老化、泵油污染或閥門泄漏。

清洗效果差:調(diào)整氣體比例(如Ar:O?=4:1增強氧化反應(yīng))。

四、安全與環(huán)保

氣體安全:O?、CF?等易燃/有毒氣體需配備泄漏報警器,尾氣經(jīng)scrubber處理。

輻射防護:等離子體產(chǎn)生紫外線,操作時關(guān)閉觀察窗,避免直視。

廢棄物處理:清洗后的廢液(如IPA)按?;芬?guī)范回收。

五、應(yīng)用場景優(yōu)化

半導(dǎo)體封裝:使用Ar/O?混合氣體去除焊盤氧化層,提升鍵合強度。

醫(yī)療器械:O?等離子體活化高分子材料,增強生物相容性。

光學(xué)鍍膜前處理:H?等離子體還原表面,提高膜層附著力。

  石英真空等離子清洗機本機不僅在性能上表現(xiàn)還在成本控制上具有明顯優(yōu)勢。它允許用戶在合適的預(yù)算內(nèi)完成高質(zhì)量的表面處理任務(wù),實現(xiàn)成本效益的增長。配備的可視化觸摸屏使操作更為直觀,過程參數(shù)的實時監(jiān)控功能讓用戶可以即時調(diào)整和優(yōu)化操作設(shè)置,確保處理效果始終符合預(yù)期。

  此外,該設(shè)備支持多種工藝氣體,包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣和各種氟化氣體,適應(yīng)不同的處理需求和工藝條件。高精度的氣體流量監(jiān)測系統(tǒng)配合雙路工藝氣體配置(氬氣和氧氣),實現(xiàn)了雙路氣流的精確控制,用戶可以根據(jù)需要調(diào)整氣體比例,以達到最佳的處理效果。這種靈活的工藝氣體使用方式,配合精準的流量控制,進一步提高了設(shè)備的適用性和處理品質(zhì),是科研和工業(yè)領(lǐng)域理想的表面處理解決方案。

 ?、倏梢暬|摸屏,過程參數(shù)實時監(jiān)控。

  ②支持各種工藝氣體,包括氬氣,氧,氫,氦和氟化氣體。

 ?、鄹呔葰怏w流量監(jiān)測系統(tǒng),兩路工藝氣體配置(氬氣、氧氣),雙路氣流控制,比例可調(diào)。

 

 

 

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